数字IC后端设计工程师面试真题·5(含参考答案)

  1. .什么是clock skew?如何计算的?

    在CTS中,由于时钟到每个寄存器的路径延迟不一样,造成信号到达 clock pin 的时间也不一样,寄存器也不会同时翻转。 Skew 的定义就是最长路径 延迟减去最短路径延迟的值。

  2. 什么是crosstalk? 为什么会产生crosstalk? 会带来什么后果? 

    Crosstalk就是串扰。 当两条或两条以上的net在物理上相隔较近时,他们之间会 因为耦合电容而产生相互之间的信号干扰。这种干扰在最终会带来两种结果: 改变delay或者产生glitch。


  3. 什么是天线效应(antenna effect)? 说几种你知道的修复方法?

    电荷积累,在我们芯片里,一条条长的金属线或者多晶硅(polysilicon)等导 体,就象是一根根天线,当有游离的电荷时,这些“天线”便会将它们收集 起来,天线越长,收集的电荷也就越多,当电荷足够多时,就会放电。 如何修复? 跳层,加Diode(二极管),size up


  4. GBA和PBA分析timing有什么区别? 

    不同的路径分析模式。GBA:Graph Based Analysis mode 当我们使用GBA分析模式时,工具会保存每个cell的worst和best slew。在 计算setup slack时,统一的采用worst的input slew去计算每个cell的 output slew;在计算hold slack时,统一的采用best的input slew 去计算每个cell的output slew ◼PBA:Path Based Analysis Mode ◼和GBA模式相比,PBA要更加乐观,因为它会计算具体哪些路径 哪些是实际的路径。


  5. 我们在修复hold violation时,buffer应该加在什么位置?

    正常情况下,加在endpoint前面,但是也要根据path的setup margin做调整。


  6. 修复timing violation时,首先应该关注什么,有哪些需要注意的点?

    应该关注path的margin情况,cell可以放置的位置。


  7. calibre里面检查drc和PR工具里面的drc有什么区别?

    PR工具: 金属层连线drc Calibre: signoff工具,通常需要加gds merge起来,检查的是base layer 和金属层的drc。


  8. 什么是LVS?出现LVS violation时应该怎么办?

    LVS: Layout Versus Schematic 版图与电路原理图一致性检查。 看log,report信息,有没有ERROR。然后分析一下是什么类型的错误,确 定电源和地有没有短路。


  9. 说一下检查LVS的具体流程?

    Merge网表=> Merge GDS => Run LVS


  10. 说一下Calibre检查drc的具体流程?

  11. 为什么芯片需要在多个view下signoff?

    因为芯片会工作在不同的条件下,比如高温,低温,以及不同的工作模式。


  12. low vt cell和high vt cell有什么区别,各有什么优缺点?

    low vt cell速度快, 功耗大 high vt cell速度慢,功耗小。


  13. LEF和GDSII有什么区别?

    LEF描述的是布局布线的规则库文件 GDSII描述的是具体的版图信息,用于foundary生产芯片用。
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楼主用心了,好多分享面试题的,都没答案的
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发布于 2022-04-16 10:55

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11-14 16:15
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湖南工业大学 Java
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