PECVD系统的定义及市场概况 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种利用等离子体技术沉积薄膜的工艺。相较于半导体器件制造中广泛采用的物理气相沉积(PVD)和热化学气相沉积(Thermal CVD)等技术,PECVD能在相对较低的温度(低于350°C)下实现晶圆表面高均匀性的薄膜沉积。此外,该等离子沉积技术能对薄膜材料特性(如折射率、硬度等)实现卓越调控,适用于SiO₂、SiN_x、a-Si、SiON及类金刚石碳(DLC)等薄膜材料。 根据QYResearch最新发布的《2026-2032全球与中国PECVD系统市场现状及未来发展趋势》市场研究报告显示,全球PECVD系统市场规模预计将从...